Ge substrate

Ang Ge substrate ay tumutukoy sa isang substrate na gawa sa elementong germanium (Ge).Ang Germanium ay isang semiconductor na materyal na may natatanging elektronikong katangian na ginagawa itong angkop para sa iba't ibang mga electronic at optoelectronic na aplikasyon.

Ang mga substrate ng Ge ay karaniwang ginagamit sa paggawa ng mga elektronikong aparato, lalo na sa larangan ng teknolohiyang semiconductor.Ginagamit ang mga ito bilang mga batayang materyales para sa pagdedeposito ng mga manipis na pelikula at mga epitaxial layer ng iba pang semiconductors tulad ng silicon (Si).Maaaring gamitin ang mga substrate ng Ge upang palaguin ang mga heterostructure at compound semiconductor layer na may mga partikular na katangian para sa mga aplikasyon gaya ng mga high-speed transistor, photodetector, at solar cell.

Ginagamit din ang Germanium sa photonics at optoelectronics, kung saan maaari itong magamit bilang substrate para sa lumalaking infrared (IR) detector at lens.Ang mga substrate ng Ge ay may mga katangian na kinakailangan para sa mga infrared na aplikasyon, tulad ng malawak na hanay ng transmission sa mid-infrared na rehiyon at mahusay na mga katangian ng mekanikal sa mababang temperatura.

Ang mga substrate ng Ge ay may malapit na tugmang istraktura ng sala-sala sa silikon, na ginagawang tugma ang mga ito para sa pagsasama sa mga elektronikong nakabatay sa Si.Ang pagkakatugma na ito ay nagbibigay-daan sa paggawa ng mga hybrid na istruktura at pagbuo ng mga advanced na electronic at photonic na aparato.

Sa buod, ang isang substrate ng Ge ay tumutukoy sa isang substrate na gawa sa germanium, isang materyal na semiconductor na ginagamit sa mga electronic at optoelectronic na aplikasyon.Ito ay nagsisilbing isang plataporma para sa paglago ng iba pang mga semiconductor na materyales, na nagbibigay-daan sa paggawa ng iba't ibang mga aparato sa larangan ng electronics, optoelectronics at photonics.